China a pus în mișcare, începând din 2019, un program secret amplu pentru a dezvolta tehnologia fundamentală care stă la baza celor mai avansate cipuri din lume — o linie de echipamente numite mașini de litografie cu ultraviolet extrem (EUV) — într-o inițiativă comparată cu un adevărat „Proiect Manhattan” tehnologic. Această campanie a fost concepută pentru a rupe dominația Occidentului în domeniul semiconductorilor de ultimă generație, un element esențial în inteligența artificială (IA), smartphone-uri și aplicații militare moderne.
EUV-urile sunt mașini extrem de complexe și scumpe, capabile să utilizeze lumina ultravioletă de înaltă energie pentru a grava circuite electronice cu dimensiuni de mii de ori mai subțiri decât un fir de păr uman pe un wafer de siliciu. Această tehnologie este indispensabilă pentru producția de cipuri de ultimă generație — cele care furnizează puterea de calcul necesară modelelor avansate de IA sau sistemelor de calcul de înaltă performanță. Deocamdată, o singură companie din lume — ASML din Olanda — a stăpânit această tehnologie la nivel comercial, iar furnizorii săi de optică de precizie provin din Germania.
Într-o facilitate cu securitate ridicată din Shenzhen, echipe de ingineri chinezi, conduse de foști experți de la ASML, au construit un prototip de mașină EUV care umple practic o hală de fabrică. Această mașină este operațională în sensul că poate genera lumina UV extremă necesară litografiei, însă nu este încă capabilă să producă cipuri funcționale. Potrivit surselor Reuters, prototipul Chinei a fost finalizat la începutul anului 2025 și se află în prezent în faza de testare.
Programul a fost menținut departe de ochii publicului și se află printre cele mai strâns supravegheate proiecte de tehnologie avansată din China. Desfășurarea inițiativei a fost supervizată de oficiali de rang înalt, inclusiv de apropiați ai președintelui Xi Jinping și de lideri ai Comisiei Centrale pentru Știință și Tehnologie, potrivit surselor. Gigantul tehnologic Huawei a avut un rol central în coordonarea rețelei de companii și institute de cercetare implicate, mobilizând mii de ingineri în această misiune strategică.
Contextul acestui demers tehnologic este o răcire accelerată a relațiilor tehnologice între China și Statele Unite, în care măsuri de control al exporturilor impuse de Washington și aliații săi au încercat să țină China departe de tehnologiile de producție a celor mai avansate cipuri. Începând cu 2018, SUA au exercitat presiuni asupra Olandei pentru a limita exporturile ASML către China, iar în 2022 au extins aceste restricții pentru a interzice vânzarea atât a mașinilor EUV, cât și a echipamentelor DUV (deep ultraviolet) mai vechi, folosite pentru cipuri de generații inferioare. Oficialii americani descriu aceste sancțiuni ca un efort de a preveni utilizarea tehnologiei avansate în aplicații sensibile, inclusiv militare.
China, însă, a găsit modalități de a avansa în pofida acestor restricții. Prototipul EUV a fost construit folosind componente achiziționate de pe piețe second-hand și piese obținute prin rețele intermediare pentru a masca destinația finală. Mai mult, recrutarea de foști ingineri ASML a fost una dintre cele mai notabile strategii: experți cu cunoștințe detaliate despre tehnologia EUV au fost atrași cu pachete financiare semnificative și alte beneficii, iar unii au lucrat sub nume false pentru a păstra proiectul confidențial. Un exempl este Lin Nan, fost șef al tehnologiei surselor de lumină la ASML, al cărui nou laborator la Institutul de Optică din Shanghai a depus numeroase brevete legate de sursele de lumină EUV în interval de un an și jumătate. Institutul Changchun pentru Optică, Mecanică Fină și Fizică, parte a Academiei Chineze de Științe, a reușit un avans semnificativ prin integrarea luminii EUV în sistemul optic al prototipului, permițând astfel mașinii să devină operațională în 2025, deși opticile necesită încă perfecționări substanțiale.
Deși progresul Chinei este evident, provocările rămân considerabile. Tehnologia opticii de precizie, esențială pentru controlul exact al luminii EUV în cadrul procesului de imprimare a circuitelor, continuă să fie dominată de furnizori occidentali. China nu a reușit încă să reproduca la scară fină aceste componente critice, iar fără ele producția de cipuri cu randament ridicat rămâne un obiectiv greu de atins pe termen scurt.
În pofida acestor limitări tehnologice, planul oficial al Beijingului este să producă primele cipuri funcționale folosind prototipul EUV până în 2028, deși surse apropiate proiectului consideră că un termen realist este mai degrabă 2030 — un progres totuși mult mai rapid decât estimările anterioare ale analiștilor, care plasau atingerea autosuficienței în producția de cipuri avansate la mijlocul deceniului următor.
Succesul ar marca un punct de cotitură în competiția globală pentru tehnologie: China ar reduce substanțial dependența de lanțurile de aprovizionare occidentale și ar putea produce intern cipuri avansate pentru aplicații atât comerciale, cât și militare. Acest lucru ar diminua semnificativ eficacitatea sancțiunilor tehnologice și ar replasa echilibrul forțelor în industria globală a semiconductorilor.
…
Această inițiativă strategică chineză combină resurse guvernamentale, ingineri recrutați din Occident, companii de top din industrie și institute de cercetare pentru a recrea — în versiunea sa proprie — tehnologia EUV, fapt ce reflectă ambițiile unei superputeri tehnologice în ascensiune și capacitatea acesteia de a depăși barierele impuse de rivalitatea geopolitică și de blocajele tehnologice occidentale.
